Chambres à vide NEG pour SOLEIL II

Dans le cadre de l’Upgrade « SOLEIL II », le Synchrotron SOLEIL situé à Saint-Aubin (91) lance un appel à candidature (procédure avec négociation) pour la fourniture de chambres à vide avec dépôts de Non-Evaporable Getter (NEG) destinées à l’anneau de stockage. Le vide du futur anneau de stockage sera obtenu grâce à une combinaison d’un système de pompage de type cartouche NEG avec pompage ionique intégré et de chambres à vide avec dépôt NEG activé préalablement entre 180°C et 230°C en TiZrV de 0,5 µm d’épaisseur appliqué sur plus de 90 % de leur surface interne . La circonférence de l’anneau de stockage est de 354 mètres. Les chambres concernées par cet appel à candidature représentent environ 80 % de la longueur totale des secteurs vides et des sections droites de l’anneau de stockage (phase I de SOLEIL II). Les chambres à vide devront être intégrées dans un environnement mécanique très contraint, caractérisé par une forte densité d’éléments magnétiques, imposant des tolérances mécaniques de l’ordre de quelques dixièmes de millimètre. Les diamètres intérieurs caractéristiques seront compris entre 12 mm et 16 mm, pour des longueurs comprises entre 500 mm et 2 000 mm. Les chambres à vide devront assurer la dissipation de la puissance photonique incidente et seront fabriquées exclusivement en alliages de cuivre de type CuCrZr et OFS. Elles seront refroidies par circulation d’eau et raccordées par des brides UHV de type MO ou CF. Après activation du dépôt NEG, le vide devra être inférieur à 5 × 10⁻¹⁰ mbar sans dispositif de pompage supplémentaire. Les performances de pompage du revêtement NEG devront être conformes aux valeurs de référence de la littérature (en vitesse de pompage et capacité de sorption). Le marché sera alloti en 5 lots correspondant aux différentes familles de chambres à vide, pour un volume total d’environ 160 chambres. Les candidats pourront répondre à un ou plusieurs lots. La procédure avec négociation se déroulera en deux phases successives : Phase 1 : Sélection des Candidatures, Phase 2 : Remise d’un dossier « offre » par les candidats sélectionnés. Les candidats devront justifier d’une expertise forte en UHV et d’une maîtrise des technologies de fabrication de chambres à vide UHV et de dépôts NEG pour les accélérateurs de particules.