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Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Appel d'offres

2026-02-08

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

Informations générales

  • Appel d'offres N° 26-12969
  • Procédure : Appel d'offres ouvert
  • Famille : JOUE
  • Classification CPV : 22520000, 38000000

Dates importantes

  • Date de clôture : 23/03/2026 11:30 (0 jours 7 heures restants)

Autres informations

Localisation :
Grenoble
  • Départements de publication : Isère (38)
  • Identifiant interne : AOO-13-2025

Lots

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)

LOT-0001
Fournitures

Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.

Identifiant interneFourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Durée prévue4 ans
Classification CPV22520000, 38000000
Adapté aux PME

Acheteurs

Centre National de la Recherche Scientifique

ORG-0001

SIRET: 18008901303720

Adresse38000, 25 Av. des martyrs

Documents

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