Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Appel d'offres
Centre National de la Recherche Scientifique
2026-02-08
Informations générales
- Appel d'offres N° 26-12969
- Procédure : Appel d'offres ouvert
- Classification CPV : 22520000 - Matériel de gravure sèche, 38000000 - Équipements de laboratoire, d'optique et de précision (excepté les lunettes)
Dates importantes
- Date de clôture : 23/03/2026 11:30 (cloturé)
Autres informations
Localisation :
Grenoble
- Départements de publication : Isère (38)
- Identifiant interne : AOO-13-2025
Lots
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
LOT-0001Fournitures
Fourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching), réalisation de son installation en salle blanche et tenue des tests de validation, délivrance d'une formation et remise de la documentation technique associée.
Identifiant interneFourniture d’un équipement de gravure par plasma – RIE (Reactive Ion Etching)
Durée prévue4 ans
Adapté aux PME
Acheteurs
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