Fourniture d’un équipement 200 mm de dépôts PLD (Pulsed Laser Deposition).

Le CEA-Leti souhaite faire l’acquisition d’un équipement 200 mm de dépôts PLD (Pulsed Laser Deposition) pour le développement des technologies CMOS et plus particulièrement des matériaux piézoélectriques. Il est destiné à réaliser les dépôts suivants : nitrure de Titane (TiN), oxyde d’indium-étain (ITO), nitrure d’aluminium scandium (ScAlN), nitrure d’aluminium (AlN). Le marché envisagé comprend les tranches suivantes : - Une tranche ferme correspondant à l’équipement de base, - Une tranche optionnelle n°1 relative à la fourniture d’une chambre PLD. Le marché envisagé comprend également les options suivantes : Options avec chiffrage obligatoire : o OPT1 : Formation à la Maintenance de 1er niveau. Options avec chiffrage facultatives : o OPT2 : Formation à la Maintenance avancée o OPT3 : Possibilité d’upgrader l’équipement en 300 mm plus tard o OPT4 : Echangeurs de chaleur et systèmes de refroidissement o OPT5 : Transformateur électrique o OPT6 : Transport, assurance comprise, selon les conditions DAP CEA Grenoble (Convention Incoterms ICC 2020)