Fourniture d’un équipement d’épitaxie basse température de type « RPCVD »
Appel d'offres
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
2025-03-07
FournituresEquipements spécialisés
Une attribution a été publiée.
Pour ses activités de recherche axées sur le développement de technologies FD-SOI de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement d’épitaxie afin de relever les défis technologiques à venir. Cet équipement d’épitaxie à basse température de type RPCVD (« Reduced Pressure Chemical Vapor Deposition » en anglais ») doit être capable de réaliser une croissance par épitaxie intrinsèque et dopée in situ, non sélective et sélective (types N et P) de semi-conducteurs du groupe IV, à haute et basse température (de 1100°C à 300°C) sur des plaquettes de silicium de 300 mm.
Le marché envisagé comprend les options à chiffrage obligatoire suivantes :
- Option 1 : Chambre de gravure pour l’optimisation du contact, tel que décrit aux paragraphes 2.7 et 3.1.5 du cahier des charges.
- Option 2 : Chambre de gravure pour le creux latéral (« lateral recess »), tel que décrit au paragraphe 2.8 et 3.1.8 du cahier des charges.
- Option 3 : Connexion de l’équipement avec une boite sous-vide pour le transport de plaques, tel que décrit aux paragraphes 3.4 du cahier des charges.
Il comprend également les options à chiffrage facultative suivantes :
- Option 4 : Systèmes de pompages, tel que décrit au paragraphe 3.2.1 du cahier des charges.
- Option 5 : Systèmes de régulation de température, tel que décrit au paragraphe 3.2.6 du cahier des charges.
- Option 6 : Transformateur électrique, tel que décrit au paragraphe 4.1.4 du cahier des charges).
- Option 7 : Formation maintenance niveau 1, tel que décrit au paragraphe 9 du cahier des charges).
- Option 8 : Formation maintenance avancée, tel que décrit au paragraphe 9 du cahier des charges).
- Option 9 : Deuxième année de garantie, tel que décrit au paragraphe 11 du cahier des charges).
Informations générales
- Procédure : Procédure avec négociation
- Classification CPV : 31712100 - Machines et appareils microélectroniques
Dates importantes
- Date de clôture : 10/04/2025 10:00 (cloturé)
Autres informations
- Départements de publication :
- Identifiant interne : B25-00642-CMF
Informations complémentaires de l'avis
La date du 10 avril 2025 indiquée dans le présent avis de marché correspond à la date limite de remise des candidatures, et non à la date limite de remise des offres. Les modalités de fixation de la date de remise des offres sont précisées dans le dossier de consultation.
Lots
Fourniture d’un équipement d’épitaxie basse température de type « RPCVD »
LOT-0001Fournitures
Pour ses activités de recherche axées sur le développement de technologies FD-SOI de 10 nm et au-delà, le CEA-LETI souhaite acquérir un équipement d’épitaxie afin de relever les défis technologiques à venir. Cet équipement d’épitaxie à basse température de type RPCVD (« Reduced Pressure Chemical Vapor Deposition » en anglais ») doit être capable de réaliser une croissance par épitaxie intrinsèque et dopée in situ, non sélective et sélective (types N et P) de semi-conducteurs du groupe IV, à haute et basse température (de 1100°C à 300°C) sur des plaquettes de silicium de 300 mm.
Le marché envisagé comprend les options à chiffrage obligatoire suivantes :
- Option 1 : Chambre de gravure pour l’optimisation du contact, tel que décrit aux paragraphes 2.7 et 3.1.5 du cahier des charges.
- Option 2 : Chambre de gravure pour le creux latéral (« lateral recess »), tel que décrit au paragraphe 2.8 et 3.1.8 du cahier des charges.
- Option 3 : Connexion de l’équipement avec une boite sous-vide pour le transport de plaques, tel que décrit aux paragraphes 3.4 du cahier des charges.
Il comprend également les options à chiffrage facultative suivantes :
- Option 4 : Systèmes de pompages, tel que décrit au paragraphe 3.2.1 du cahier des charges.
- Option 5 : Systèmes de régulation de température, tel que décrit au paragraphe 3.2.6 du cahier des charges.
- Option 6 : Transformateur électrique, tel que décrit au paragraphe 4.1.4 du cahier des charges).
- Option 7 : Formation maintenance niveau 1, tel que décrit au paragraphe 9 du cahier des charges).
- Option 8 : Formation maintenance avancée, tel que décrit au paragraphe 9 du cahier des charges).
- Option 9 : Deuxième année de garantie, tel que décrit au paragraphe 11 du cahier des charges).
Identifiant interneB25-00642-CMF
Durée prévue1 an
Informations complémentaires de l'avis
La liste des documents et informations à fournir pour le dossier de candidature
est indiquée au paragraphe 4.1 du règlement de consultation joint au Dossier de Consultation référencé B25-00642-CMF, qui est téléchargeable via le lien https://www.marchespublics.gouv.fr comme détaillé ci-dessous.
Les entreprises nouvellement créées sont autorisées à présenter leur candidature. Si elles ne sont pas en mesure de produire certains des documents demandés dans le présent avis de marché, elles peuvent justifier de leurs capacités financières et professionnelles par d’autres moyens que ceux indiqués dans le présent avis et notamment par la présentation de titres ou de l’expérience professionnelle du ou de leurs responsables. Le présent avis et/ou les documents de la consultation doivent être retirés sur https://www.marchespublics.gouv.fr . Modalités d’obtention du Dossier de Consultation : Pour obtenir le dossier de consultation des entreprises, le candidat devra le télécharger via la plateforme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante : https://www.marchespublics.gouv.fr
Le téléchargement du dossier de consultation devra préciser la référence suivante : B25-00642-CMF
Modalités de transmission des candidatures : Les candidatures seront transmises via la plateforme de dématérialisation des procédures de passation des marchés du CEA accessible sur l’URL suivante : https://www.marchespublics.gouv.fr.
Il convient de suivre les étapes suivantes qui sont décrites sur le guide d’utilisation en ligne (rubrique Aide) :
1.Se doter d’un certificat électronique répondant aux spécifications indiquées dans les conditions d’utilisation de la plateforme du CEA, rubrique « Certificat électronique»
2.Se connecter à l’adresse suivante https://www.marchespublics.gouv.fr
3.Compléter le formulaire et valider.
Forme juridique que devra revêtir le groupement d’opérateurs économiques attributaire du marché (le cas échéant) En cas de groupement momentané d’entreprises, celui ci peut être solidaire ou conjoint. Si le groupement est conjoint, le mandataire doit être solidaire de ses cotraitants. Il est interdit de cumuler les candidatures : en qualité de candidat individuel et de
membre d’un ou plusieurs groupements : en qualité de membre de plusieurs groupements
Acheteurs
COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
SIREN: 775685019
Adresse17 avenue des Martyrs, 38000, Grenoble
Site Webwww.cea.fr
Documents
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