Fourniture et installation d’un équipement automatique pour plaques 200mm de gravure par faisceau d'ions

Le CEA Leti souhaite acquérir un équipement automatique pour plaques 200mm de gravure par faisceau d'ions avec une solution de dépôt de silicium nitruré (en option) La chambre de gravure par faisceau d'ions doit pouvoir effectuer une gravure par faisceau d'ions réactif (RIBE) et une gravure par faisceau d'ions assistée chimiquement (CAIBE) avec des gaz d'argon, d'oxygène, de fluor et de chlore. L'équipement doit traiter différents types de plaques de 200 mm (collées, silicium sur verre ou silicium sur silicium) et d'épaisseurs variables (de 500 à 1500 um).