Acquisition d'une machine de dépôt assisté par plasma généré par induction et son installation au réseau de gaz de l'IETR et acquisition d'un spectrophotomètre (CPER CyMoCod Phase 4B)

Dans le cadre de la phase 4 du projet, NanoRennes compte s?équiper d?un réacteur PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition). Cet équipement permettra de déposer des couches minces de qualité électronique sur des substrats rigides ou souples et notamment sur des nouveaux polymères issus de synthèses biosourcées pouvant à terme remplacer dans certains cas des substrats tel que le kapton, PEN PET? Cet équipement confortera le positionnement à l?avant-garde de l?IETR sur les technologies de fabrication d?électronique flexibles et plus notamment encore sur les circuits électroniques utilisant des substrats et des matériaux biosourcés pour diminuer l?impact environnemental de la fabrication des dispositifs à semi-conducteur.